Como Regan señaló, APCVD le dará un proceso de crecimiento más rápido pero de baja uniformidad, y lo contrario para LPCVD. Cuando intentas depositar un material, todo lo que haces es romper / romper el gas precursor para que pueda reaccionar y conducir a una capa sólida. La tasa de crecimiento será proporcional a la tasa de “craqueo”, dada una temperatura / presión alta, entonces la tasa de craqueo será alta, y viceversa. Es por eso que APCVD lidera en términos de tasa de crecimiento, y por qué tenemos que establecer una temperatura de deposición más alta si pretendemos usar LPCVD. Sin embargo, la tasa de crecimiento y la uniformidad también dependen del parámetro llamado difusividad, es decir, “cuán efectivo” el agrietamiento conducirá a una reacción. Según Fransilla (2010), la difusividad será proporcional a [matemática] T [/ matemática] pero también inversamente relacionada con [matemática] P [/ matemática]
[matemáticas] D \ propto T ^ {3/2} / P [/ matemáticas]
Dada su baja [matemática] P [/ matemática] y alta [matemática] T [/ matemática], LPCVD tendrá una mayor difusividad
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